科研級(jí)三目倒置金相顯微鏡LH-71D采用優(yōu)良的無限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)與多功能、模塊化的設(shè)計(jì)理念，帶有偏光.裝置，并可選配暗場(chǎng)裝置、DIC微分干涉裝置實(shí)現(xiàn)暗場(chǎng)和微分干涉等特殊觀察。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現(xiàn)了顯微鏡操作的防振要求。符合人機(jī)工程學(xué)要求的理想設(shè)計(jì)，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金屬、巖礦內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織的鑒定和分析，或用于觀察材料表面特性。

產(chǎn)品概述

科研級(jí)三目倒置金相顯微鏡LH-71D采用優(yōu)良的無限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)與多功能、模塊化的設(shè)計(jì)理念，帶有偏光.裝置，并可選配暗場(chǎng)裝置、DIC微分干涉裝置實(shí)現(xiàn)暗場(chǎng)和微分干涉等特殊觀察。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現(xiàn)了顯微鏡操作的防振要求。符合人機(jī)工程學(xué)要求的理想設(shè)計(jì)，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金屬、巖礦內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織的鑒定和分析，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等。廣泛應(yīng)用在工廠、實(shí)驗(yàn)室和教學(xué)及科學(xué)領(lǐng)域。是金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)研究的理想儀器。總放大倍數(shù):50-800X。

1.倒置設(shè)計(jì)：

物鏡位于樣品下方，適合觀察大型、厚重或不規(guī)則樣品。

三目鏡筒：支持雙目觀察和第三目連接攝像頭，便于圖像采集和記錄。

高分辨率：采用優(yōu)質(zhì)光學(xué)鏡片和照明系統(tǒng)，成像清晰，細(xì)節(jié)表現(xiàn)力強(qiáng)。

多功能性：支持明場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光、微分干涉（DIC）等多種觀察模式。

模塊化設(shè)計(jì)：可根據(jù)需求升級(jí)或更換配件，擴(kuò)展功能。

2. 主要組成部分

光學(xué)系統(tǒng)：包括物鏡、目鏡和聚光鏡，提供高清晰度的圖像。

三目鏡筒：兩個(gè)目鏡用于觀察，一個(gè)目鏡用于連接攝像頭或相機(jī)。

物鏡轉(zhuǎn)換器：支持多物鏡切換，通常配置5X、10X、20X、50X、100X等物鏡。

載物臺(tái)：機(jī)械式或電動(dòng)式載物臺(tái)，可精確移動(dòng)樣品。

照明系統(tǒng)：透射光和反射光照明，支持明場(chǎng)、暗場(chǎng)等觀察模式。

調(diào)焦系統(tǒng)：粗調(diào)和微調(diào)旋鈕，用于精確聚焦。

攝像頭接口：支持連接數(shù)碼相機(jī)或攝像頭，進(jìn)行圖像采集和分析。

3. 應(yīng)用領(lǐng)域

材料科學(xué)：用于金屬、陶瓷、復(fù)合材料等的金相分析。

半導(dǎo)體行業(yè)：用于晶圓、芯片等微觀結(jié)構(gòu)的觀察和分析。

質(zhì)量控制：在制造業(yè)中用于檢測(cè)材料的微觀結(jié)構(gòu)和缺陷。

科研教育：在高校和科研機(jī)構(gòu)中用于教學(xué)和研究。

失效分析：用于分析材料斷裂或失效的原因。

4. 技術(shù)參數(shù)

放大倍數(shù)：通常為50X至1000X（取決于物鏡和目鏡組合）。

物鏡：配置5X、10X、20X、50X、100X等物鏡，支持干鏡和油鏡。

照明系統(tǒng)：LED或鹵素?zé)艄庠矗炼瓤烧{(diào)。

載物臺(tái)：機(jī)械式載物臺(tái)（手動(dòng)）或電動(dòng)載物臺(tái)（自動(dòng)），移動(dòng)范圍通常為75mm x 50mm。

攝像頭分辨率：根據(jù)攝像頭型號(hào)，分辨率從500萬像素到2000萬像素不等。

5. 操作步驟

放置樣品：將樣品放置在載物臺(tái)上，確保觀察面朝下。

選擇物鏡：根據(jù)觀察需求選擇合適的物鏡。

調(diào)整照明：選擇透射光或反射光照明，調(diào)整光源亮度。

調(diào)焦：使用粗調(diào)和微調(diào)旋鈕，使樣品清晰成像。

選擇觀察模式：根據(jù)需要切換明場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光或DIC模式。

觀察記錄：通過目鏡觀察樣品，或連接攝像頭進(jìn)行圖像采集和分析。

科研級(jí)三目倒置金相顯微鏡詳細(xì)參數(shù)